So einfach verbessern Sie eine Ebenenmaske in Photoshop CS4

17. Mai 2012

Das kennen Sie sicher: Sie haben mühsam einen Bildbereich ausgewählt, den Sie bearbeiten möchten (etwa den Motivhintergrund). Wenn Sie nun eine EINSTELLUNGSEBENE erzeugen, verändert Photoshop nur den ausgewählten Bildbereich – der Rest wird in der EBENENMASKE schwarz dargestellt; er ist von der Korrektur nicht betroffen. Leider zeigt sich oft erst im Nachhinein, ob Sie Ihre Auswahl sauber angelegt haben.

Da heißt es dann in früheren Photoshop-Versionen: Zurück auf „Los“ und nochmals von vorne beginnen. Nicht so mit Photoshop CS4: Ab dieser Version können Sie eine Ebenenmaske jederzeit optimieren – probieren Sie es aus:

  1. Am besten nehmen Sie ein Bild Ihrer Wahl und wählen Sie den Hintergrund grob aus. Gehen Sie auf AUSWAHL, AUSWAHL LADEN und laden Sie den Kanal HINTERGRUND.
  2. Erzeugen Sie eine EINSTELLUNGSEBENE vom Typ HELLIGKEIT/KONTRAST. Stellen Sie die HELLIGKEIT auf 50 und den Kontrast auf –40. Gehen Sie ins Register MASKE. Jetzt können Sie Ihre Maske bearbeiten: Reduzieren Sie z. B. die DICHTE auf 80 % – so wird auch der nicht ausgewählte Bereich leicht mit in die Korrektur einbezogen. Damit der Übergang zwischen ausgewählten und nicht-ausgewählten Bildbereichen nicht zu abrupt ausfällt, stellen Sie die WEICHE KANTE auf PX.

Auch wenn’s auf den ersten Blick nicht auffällt: Unsere Auswahl enthält Lücken. Diese Löcher „stopfen“ Sie kinderleicht: Klicken Sie auf MASKENKANTE – es öffnet sich der Dialog Maske verbessern. Klicken Sie auf STANDARD. Dann erhöhen Sie den KONTRAST auf 30 %. Bestätigen Sie mit OK.

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